МОЛИБДЕНДЕГІ КАДМИЙДІҢ МАГНЕТРОНДЫ ШАШЫРАУЫ

Жұмыста ионды-плазмалық қондырғыда тұндыру жолымен алынған Mo-Cd қосылыстары қарастырылды. Ол үшін металды ионды-плазмалық тозаңдатуды қолдана отырып, нанокристалды құрылымы бар жабындарды алу әдісі қолданылады, кейіннен аралдық пленкалар түрінде төсекке тұндыру. Молибден-кадмий MO-Cd негізінде жаңа жабындар алынды. Алғаш рет 100 ° С жоғары емес температурада Mo-Cd синтезі алынды және балқытудың термофлютинациялық әсерін қолдану арқылы жүзеге асырылды. Монокристалды үлгілердің құрылымын зерттеу үшін Резерфордтың кері шашырауының спектроскопиясы арқылы каналдау әсері қолданылды. Каналдау бағыттары бойынша иондардың шоғырының әртүрлі бағыттарында алынған спектрлерді талдау негізінде зерттелетін үлгінің кристалды жетілуі туралы ақпарат алуға болады. Иондардың беттік атомдармен тікелей соқтығысуының салдары болып табылатын беттік шыңның шамасын талдаудан беттік құрылымы туралы, мысалы, онда қайта құрылыстар, релаксациялар мен адсорбаттардың болуы туралы ақпарат алуға болады. Эксперименттер рентгендік дифрактометрде, электронды микроскопта және криогенді қондырғыда жүргізілді.

1. Benhenda S., Guglielmacci J.M., Gillet M., Hultman L., Susgren J.-E. Effect of substrate bias on the protective properties of TiN films grown by reactive magnetron sputtering onto Cu substrates// Appl. Surface Sci.-1989.-Vol.40,-№1-2.-P.121-128.

2. Тулеушев А.Ж., Володин В.Н., Тулеушев Ю.Ж., Жаканбаев Е.А. Новое соединение Ta3Pb: получение, структура и свойства. // Ядерная и радиационная физика, Матер. 4-ой Межд. конф., 15-17 Алматы, 2004г. - с.270-276.

3. Wronski C.R.M. The size dependence of the melting point of small particles of tin // Brit. J. Appl. Phys.-1967.-Vol.18, № 12.-Р.1731-1737.

4. Белый А.В., Карпенко Г.Д. Структура и методы формирования износостойких поверхностных слоев. – М.: Машиностроение, 1991.

5. Волин Э.М. Ионно-плазменные методы получения износостойких покрытий (Обзор зарубежной литературы за 1979-1983 гг.) // Технология легких сплавов.−№ 10.−1984.

6. Hill R.G., Cormia R., McLeod P. High rate magnetron sputtering// Proc. 7th Int. Vac. Congr. and 3rd Int. Conf. Solid. Surfaces, Vienna.-1977.-Vol.2,P.1583-1586.

7. Электронный ресурс – сайт производителя техники JEOL: http://jeolrus.com/products/d_products/jem-2100/index.html.

8. Johansson B.O., Sudgren J.-E., Hentzell H.T.G., Karlsson S.-E. Influence of substrate shape on TiN films preparared by reactive sputtering// Thin. Solid. Films.-1984.-Vol.111,№4.-P.313-322.

9. Stowell M.J. The Solid-Liquid Interfacial Free Energy of Lead from Supercooling Data // Phil. Mag.- 1970.-Vol.22, №176.-Р.1-6.

10. Жаканбаев Е.А., Тулеушев Ю.Ж. Исследование влияния параметров магнетронного осаждения на сверхпроводящие свойства пленок нитрида ниобия// Тез. 7 межд.конф. «Ядерная и радиационная физика».-Алматы, 2007.-С.102-104.