Александр Толстогузов
Капарика
Alexander Tolstoguzov
Caparica
Времяпролетная вторичная ионная масс–спектрометрия использовалась для исследования кластерной эмиссии трех видов образцов Si с различными размерными особенностями – массивной монокристаллической пластины, прессованной таблетки из частиц диаметром 60 нм и голографической решетки, состоящей из колонок длиной 200 нм и высотой 160 нм в диаметре. Было показано, что при ионно–лучевой бомбардировке Bi3 + с энергией 25 кэВ оба наноразмерных образца демонстрируют более интенсивную отрицательную кластерную вторичную ионную эмиссию по сравнению с массивным образцом Si. Было обнаружено, что «наноразмерный эффект распыления» более выражен для крупных кластеров Sin с n–7 и для прессованной таблетки нанопорошка, в которой отдельные частицы более изолированы, чем в столбцах, образованных голографической решеткой.
Time–of–flight secondary ion mass spectrometry was used to studycluster emission of three kind of Si samples with different dimensional features – massivesingle–crystal wafer, pressed pellet made of 60 nm in diameter particles and holographical grating consisted of the columns of 200 nm in height and 160 nm in diameter. It was shown that under 25 keV Bi3+ion–beambombardment both nanosized samples exhibited more intense negative cluster secondary ion emission as compared with massive Si sample. The «nanoscale effect of sputtering» was found to be more pronounced for large Sin– clusters with n>7 and for pressed nanopowder pellet, in which individual particles are more isolated than in the columns formed holographic grating.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.